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第二百二十四章：无法绕开的难题

花旗国本土的产能需求。

另外，还需要保证百分之五十五的零部件，均从美国供应商处采购，并接受定期审查，这也为日后阿斯慢，向华夏国出口光刻机受到花旗国管制埋下了伏笔。

EUV设备在下游市场供不应求。由于上游零部件供应不足（如蔡司的镜头），阿斯慢的EUV光刻机产量一直不高，而下游市场对7nm制程的需求却十分旺盛。2011年英特尔、三星和台急电共同收购阿斯慢23%的股权，帮助阿斯慢提升研发预算，同时也享受EUV光刻机的优先供应权。

近年来，阿斯慢已经出货的EUV光刻机主要优先供应给台积电、三星、英特尔等有紧密合作关系的下游厂商。目前所有中国企业中，还没有任何一家企业，能够从阿斯慢订购到EUV光刻机。

而且此时的华夏企业，对于阿斯慢的EU∨光刻机，似乎并没有很迫切的需求，毕竟阿斯慢公司的浸润式DUV光刻机，并没有停止出口华夏市场，而且星光科技集团也能生产DUV浸润式的光刻机，完全可以满足国内的需求。

至于10纳米以下的制程工艺，华夏国内的市场需求银少，所以更高端的极深紫外线EUV光刻机，华夏国内的市场需求并不迫切。

可是全球智能化科技，是在飞速发展的，随着科技的发展，人民对于芯片的要求会越来越高，几年之后，全球会向5G，甚至6G技术发展，那个时候要用到的智能芯片，必须要用5纳米以下的制程技术，甚至是1纳米的制程技术。

那个时候，再怎么研究推进，浸润式DUV光刻机，也不可能达到5纳米以下的制程技术。

研发投深紫外线暴光技术的EUV光刻机，便是最终无法绕开的办法。

可是华夏的光刻机研发生产企业，除了一个星光科技集团，就只有沪上的微电子集团了。

可微电子集团的光刻机技术，比星光科技集团尚且差了不少的距离，更别说和国外的几大光刻机企业相比了，微电子集团的光刻机技术，现在还停留在90纳米的制程工艺上。

星光科技集团，集中了数以千计的科技研发人员，想要在EUV光刻机技术上有所突破，打破阿斯慢公司的技术垄断，追赶上阿斯慢，造出一台符合5纳米制程以下的EUV光刻机，并不是件很容易的事情，甚至连能不能办到，都是一个未知数。

这并不是开玩笑，有些技术难题，不是说你努力了，你不计成本的砸了资金进去，就一定能够成功的。

看看阿斯慢研究出EUV光刻机技术的过程，便十分的清楚了。

如果没有花旗国科研力量的贡献，没有欧美各国一些公司的技术支持，阿斯慢也研发不出

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